我們提供了一種基于使用高功率LED和高級(jí)均勻化光學(xué)元件的創(chuàng)新紫外線照明系統(tǒng)。該產(chǎn)品線適用于光刻膠曝光（UV-LED光刻和固化），適用于MEMS、微流體、光子學(xué)、半導(dǎo)體和光伏應(yīng)用中使用的各種基板和光刻膠。我們的標(biāo)準(zhǔn)UV照明產(chǎn)品系列滿足了300毫米寬（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

可以根據(jù)您的具體要求設(shè)計(jì)定制解決方案（例如，改裝口罩對(duì)準(zhǔn)器，為您未來的產(chǎn)品提供OEM）。有關(guān)UV-LED改裝和定制曝光系統(tǒng)的更多詳細(xì)信息，請(qǐng)參閱我們的解決方案>技術(shù)頁面。

UV-LED曝光系統(tǒng)：

為什么選擇LED技術(shù)？

直到最近，汞弧燈是唯1能夠提供適用于紫外光刻曝光的高強(qiáng)度光的光源。由于LED技術(shù)的進(jìn)步，UV LED已成為危險(xiǎn)和耗能汞燈的一種非常有吸引力的替代品。

除了生態(tài)和安全方面，與傳統(tǒng)汞燈相比，UV LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)在光刻方面是眾多而重要的。UV LED的一個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是它們?cè)诤荛L(zhǎng)的壽命內(nèi)以一致的發(fā)射運(yùn)行。因此，不需要進(jìn)行日常校準(zhǔn)和維護(hù)。此外，通過更節(jié)能，LED減少了加熱，大大簡(jiǎn)化了系統(tǒng)冷卻。

值得注意的是，可以組合在365nm、405nm和435nm（峰值波長(zhǎng)）發(fā)射的LED來模擬汞弧燈的UV-A光譜（汞元素的i線、h線和g線特征峰）

UV-LED曝光系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)

照明穩(wěn)定，無需日常校準(zhǔn)

瞬時(shí)開啟，僅在曝光時(shí)開啟，不需要機(jī)械快門

使用壽命長(zhǎng)，意味著不再需要耗材

窄光譜：不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生不必要的加熱，工藝更可重復(fù)

低功耗

無維護(hù)成本