MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業(yè)領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷*、增強技術型企業(yè)的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-40FA/60F光刻機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-40FA/60F光刻機

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：最大5英寸

基板尺寸：2~4英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±3%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸

MDA-60FA

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：最大7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±5%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸