MDA-12FA全自動光刻機(jī)：

MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè)，始終致力于不斷*、增強(qiáng)技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計團(tuán)隊，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應(yīng)滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應(yīng)用需求，并且提供半導(dǎo)體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。

MDA-12FA型曝光機(jī)是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準(zhǔn)曝光平臺具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準(zhǔn)曝光機(jī)具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-12FA全自動光刻機(jī)

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標(biāo)記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：最大14英寸

基板尺寸：8~12英寸

均勻梁尺寸：13.25*13.25英寸

紫外線光源：紫外線燈，2KW，5KW

光束波長：350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強(qiáng)度  2千瓦：~25毫瓦/?5千瓦：~45毫瓦/?

對齊方式：全自動

對準(zhǔn)精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸