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脈沖激光外延制備系統簡單實用的PLD系統、磁控濺射系統，性能穩(wěn)定的薄膜沉積系統，可提供PLD、磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜等多種薄膜制備方案，是多鐵性薄膜制備的設備，*的石墨烯生長裝置可以制備高質量的石墨烯薄膜。制備系統可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、石墨烯、碳納米管、2D材料，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆、鉆涂層以及器件加工。系統利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要離子液體柵極，...

快速化學淬滅系統低價格、高性能、低樣品消耗，*的數據獲取功能，使用簡便，是研究和教學的理想儀器。因為有的化學反應某一反應物是過量的，當反應進行到一定程度，目標產物已經獲得，該過量反應物繼續(xù)存在的話會進一步反應生成不希望的產物，所以需要淬滅，淬滅的原理是用另一種更易與該過量化合物反應的化合物與之反應，從而將其從體系中除去。在化學反應中，為了保證反應的*，通常某一反應物是過量的，此時過量的反應物可能會進一步反應生成不需要的產物或者對檢測造成影響，所以就需要進行淬滅，化學發(fā)光需要用...

快速動力學停流裝置是好的多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統，產品設計解決您快速動力學應用中的所有需要。主要特點：1.恒溫水夾套設計，全電腦控制操作。2.程控驅動注射器，每路樣品流量可調，不受濃度與粘度影響。3.高精度，*可調的混合與稀釋比例。4.極短的死時間，可達0.25毫秒。5.二路、三路、四路流動注射停流裝置可選擇。可擴展溫度適用范圍：快速動力學停流裝置可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，...

表面光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器，采用電磁屏蔽，無任何外界干擾，測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學主要測試技術，載流子動力學測試技術主要有電學和譜學兩類，電學方法主要是光電化學，測量方式又分時間域和頻率域，時間域方法主要有瞬態(tài)光電壓（TPV）和瞬態(tài)光電流（TPC），頻率域方法主要有電化學阻抗譜（EIS）和光強度調制光電壓譜（IPVS）和光強度調制光電流譜（IMPS）等。譜學方法主要是瞬態(tài)吸收光譜和瞬...

多功能磁控濺射儀由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。磁控濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子，新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶...

狹縫擠出式涂布機是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設備。該設備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統與進料閥體配合可實現連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設備涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，廣泛應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，狹縫擠出涂布方式，涂布精度高，涂層一致性好；供料閥體配合模頭墊片，可實現連續(xù)、間歇、條紋、網格等形狀的涂布；模頭根據客戶材料特性設計，可實現超薄亞微米級涂布；計量泵供料，漿料封閉運行，可自由設定...