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負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用 SNR負性光刻膠，針對微機械加工微電子應(yīng)用，高對比度，環(huán)氧樹脂類負性光刻膠。 具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學(xué)性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

納米壓印-光刻機 緊湊型滾筒納米壓印機 我們的桌面R2P納米打印機是原型設(shè)計，實驗和產(chǎn)品開發(fā)的理想工具。 臺式R2P納米壓印機單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設(shè)備是快速原型制作、測試和表征結(jié)構(gòu)特性的理想選擇，其中包括使用光固化樹脂和壓印材料。 ?典型應(yīng)用范圍從壓印、片上實驗室到衍射光學(xué)元件和其他納米壓印結(jié)構(gòu)。桌面R2P納米打印機在其受保護的環(huán)境中工作。

全自動光刻機 公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷*、增強技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。

納米壓印系統(tǒng)-光刻機 介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機 晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術(shù)中引人注目的新技術(shù)。

狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機 狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復(fù)制重復(fù)性測試。歸功于桌面小型化的設(shè)計。它也可以大幅降低材料損耗?？蛻敉ㄟ^快速的多樣化測試來獲得更多客觀結(jié)果。

無掩膜曝光機-光刻機 美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國內(nèi)參考用戶較多！

勻膠機、旋涂儀（德國產(chǎn)、高性能）SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應(yīng)用，包括 甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺式設(shè)計，無縫全塑料材質(zhì)， 有天然聚丙烯（NPP）和聚四氟乙烯材質(zhì)（PTFE）可選。有各種吸盤，適合樣品襯底5mm--?160mm （or 6”） or 4“x4“. 更大尺寸均有??！