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高精度激光直寫光刻機(jī)，是一個用于直接CAD到基板精確圖案化的系統(tǒng)。它既可以用作通用圖案化工具，也可以用作滿足特定研究或生產(chǎn)需求的專業(yè)系統(tǒng)。

UV-LED曝光系統(tǒng)，適用于MEMS、微流體、光子學(xué)、半導(dǎo)體和光伏應(yīng)用中使用的各種基板和光刻膠。我們的標(biāo)準(zhǔn)UV照明產(chǎn)品系列滿足了300毫米寬（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

NANO IMPRINT納米壓印，既可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器，同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。

SPIN-1200T勻膠機(jī)，適用于半導(dǎo)體、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。勻膠機(jī)可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

SPIN-4000A勻膠機(jī)，觸摸屏控制，可編程配方管理，操作簡單，采用排液、排液孔、分液器。

紫外激光直寫光刻機(jī)，用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西，從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型，集成相機(jī)可以用來調(diào)整現(xiàn)有的功能寫。

MDA-400M光刻機(jī)，易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，帶觸摸屏面板的PLC控制。

無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)是一個高價值的直寫激光光刻機(jī)系統(tǒng)，面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。 它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西，從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型，集成相機(jī)可以用來調(diào)整現(xiàn)有的功能寫。