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多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)) 多種薄膜沉積設(shè)備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。

脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng) 脈沖激光外延制備系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)外擁有較多用戶，為眾多老師開(kāi)啟薄膜外延制備的新篇章，用分子束外延進(jìn)行半導(dǎo)體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長(zhǎng)。

該臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)擁有達(dá)到或超過(guò)市場(chǎng)上其他品牌的功能，同時(shí)易于使用和維護(hù) - 成本低于當(dāng)今市場(chǎng)上的價(jià)格 腔室溫度：室溫到325°C±1°C; 前軀體溫度從室溫到 150 °C ± 2 °C（帶加熱夾套） 市場(chǎng)上最小的占地面積（2.5 平方英尺），臺(tái)式 安裝和潔凈室兼容 簡(jiǎn)單的系統(tǒng)維護(hù)和實(shí)用程序和 市場(chǎng)上的前體使用

磁控濺射鍍膜機(jī)具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；304不銹鋼圓柱形腔體，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸，手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞，可加熱，冷卻，偏壓，旋轉(zhuǎn)。

脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備 激光在真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

狹縫擠出式涂布鍍膜機(jī) 粘度范圍：1-20000cps，應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張，幅寬：90mm, 120mm, 300mm。

微型磁控濺射鍍膜設(shè)備 這款來(lái)自美國(guó)的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門(mén)對(duì)真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價(jià)比，可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。

超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 美國(guó)專業(yè)的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發(fā)沉積，脈沖激光沉積等領(lǐng)域有著20年制造經(jīng)驗(yàn)。