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硅穿孔工藝設(shè)備：硅穿孔(TSV,Through Silicon Via)：通過芯片和芯片之間，晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度最大，芯片之間的互連線最短，外形尺寸最小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術(shù)中最引人注目的新技術(shù)。

MDA-80SA光刻機(jī)，易于操作的用戶界面，PLC操作與PC控制，圖像抓取和數(shù)據(jù)日志，100多個(gè)程序配方，電動(dòng)操縱桿控制，電動(dòng)變焦顯微鏡和樣品臺(tái)。

MDA-12SA光刻機(jī)操作簡單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個(gè)程序配方，電動(dòng)操縱桿控制，電動(dòng)變焦顯微鏡和工作臺(tái)，顯微鏡位置控制系統(tǒng)。

MDA-12FA全自動(dòng)光刻機(jī)，操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個(gè)程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)齊標(biāo)記搜索功能。

MIDAS紫外光強(qiáng)計(jì)適用于光刻機(jī)光強(qiáng)度功率測量。它代表了新一代紫外 光強(qiáng)計(jì)。波長：365nm（可選：405nm/248nm）。

MDA-400LJ/600LJ光刻機(jī)，操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命長。

MDA-20FA全自動(dòng)光刻機(jī)是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動(dòng)化對(duì)準(zhǔn)曝光平臺(tái)具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時(shí)MDA-12SA型半動(dòng)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-600S光刻機(jī)產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價(jià)比。