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多功能鍍膜系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。

MBE 系統(tǒng)根據(jù)蒸發(fā)源的類型和數(shù)量以及基板大小，可提供不同的標(biāo)準(zhǔn)襯底尺寸：直徑300mm、直徑450mm 和 直徑570mm（根據(jù)要求的其他尺寸）。

TPD系統(tǒng)用于測量超薄薄膜吸附/脫吸的獨(dú)立系統(tǒng)，能夠在較寬溫范圍內(nèi)進(jìn)行高精度溫度控制。

快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速 退火爐的溫度補(bǔ)償，溫度控制精確，溫度重復(fù)性高，客戶包括國際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊，是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇。

超高真空多腔室物理氣相沉系統(tǒng)由全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.。

超高真空磁控濺射系統(tǒng)，襯底支架符合最大300mm直徑的晶片需求，并可對晶片加熱至850°C及加載RF偏壓。磁控濺射系統(tǒng)可按客戶需求增減其他窗口用于諸如殘余氣體分析（RGA）、反射高能電子衍射（RHEED)或橢偏儀（ellipsometry）。

納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統(tǒng)是一種多功能的 PVD 系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX 能夠容納任何類型的基材，包括卷對卷、非平面和粉末涂料。服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲能、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化 PVD 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜UHV沉積系統(tǒng)，服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲能、傳感器和生命科學(xué)。該UHV 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。