納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統(tǒng)是一種多功能的 PVD 系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX 能夠容納任何類型的基材，包括卷對卷、非平面和粉末涂料。服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲能、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化 PVD 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統(tǒng)主要特點

• 通過結(jié)合納米顆粒和薄膜生成復(fù)雜材料

• 使用 NL-UHV 的無烴納米顆粒

• 寬敞且易于訪問的腔室，非常適合精密和復(fù)雜的基材

• 向上或向下的源配置

• 與第三方來源兼容

• 使用旋轉(zhuǎn)、加熱和偏置選項對 3D 對象進(jìn)行涂層

• 全自動和配方驅(qū)動的軟件

基本系統(tǒng)配置

• 沉積室的大小 : 450 x 450 x 450 毫米

• 基礎(chǔ)壓力 : < 5e– 7托

• 取向 : 濺射

• 示例表 : 4 英寸晶圓，20rpm 旋轉(zhuǎn)

• 泵: 700 升/秒渦輪增壓器，7.2 米3/hr 干式前級泵

• 閥: 手動閥、百葉窗和線性驅(qū)動器

• 控制軟件 : 配方驅(qū)動過程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

• 原位監(jiān)測 : 用于過程監(jiān)控和終點檢測的石英晶體微量天平

• 源端口 : 多達(dá) 6 個沉積源

• 源類型: 納米粒子源、磁控濺射源、迷你電子束蒸發(fā)器、熱舟源K 池、離子源、射頻原子源

選項

• 可拆卸的沉積屏蔽層

• 朝上的源幾何體

• 樣品臺：

– 用于納米粒子加速的直流偏壓

– 用于樣品表面清潔的射頻偏置

– 加熱至 800°C

• 閥門、百葉窗和線性驅(qū)動器的自動化選項

• 渦輪前方的可調(diào)節(jié)擋板，以增加動態(tài)壓力范圍，以便在較低氣體流量下進(jìn)行濺射

• 帶傳輸臂的單獨泵送負(fù)載鎖

控制軟件

Spectrum Software Brochure

直觀的“拖放"用戶界面易于使用，并允許自動化的抽真空和沉積序列。

特征：

?全自動抽空和排氣

? 配置虛擬機架以適合您的流程
? 易于添加和刪除設(shè)備
? 實時圖表
? 連鎖監(jiān)控
? 配方控制
? 數(shù)據(jù)記錄功能