納米顆粒和薄膜UHV沉積系統(tǒng)是一種超高真空 PVD 系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。 服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲(chǔ)能、傳感器和生命科學(xué)。該UHV 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜UHV沉積系統(tǒng)主要特點(diǎn):

• 通過結(jié)合納米顆粒和薄膜生成復(fù)雜材料

• 使用 NL-UHV 的無烴納米顆粒

• UHV 系統(tǒng)，帶負(fù)載鎖定、烘烤和泵送升級(jí)選項(xiàng)

• 渦輪/干式前級(jí)泵送組合

• 共聚焦端口幾何結(jié)構(gòu)，最多可容納 5 個(gè)源

• 與第三方來源兼容

• 具有旋轉(zhuǎn)、加熱和偏置選項(xiàng)的基材涂層

• 聯(lián)鎖裝置，保護(hù)人員和設(shè)備

• 全自動(dòng)和配方驅(qū)動(dòng)的軟件

基本系統(tǒng)配置:

沉積室的大小 : 450 毫米

基礎(chǔ)壓力 :< 5e– 7托

取向 : 濺射

示例表 : 4 英寸晶圓，20rpm 旋轉(zhuǎn)，Z 軸偏移，用于樣品裝載/卸載

泵 : 300 升/秒渦輪增壓器，7.2 米3/hr 干式前級(jí)泵

閥 : 手動(dòng)閥、百葉窗和線性驅(qū)動(dòng)器

控制軟件 : 配方驅(qū)動(dòng)過程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

原位監(jiān)測(cè) : 用于過程監(jiān)控和終點(diǎn)檢測(cè)的石英晶體微量天平

源端口 : 多達(dá) 5 個(gè)沉積源2 個(gè)共聚焦 CF150 和 3 個(gè)共聚焦 CF100 源端口

源類型 : 納米顆粒源 /磁控濺射源、微型電子束蒸發(fā)器、熱舟源、K 池、離子源、射頻原子源

選項(xiàng):

• 5e– 9Torr 極限壓力（帶烘烤選項(xiàng)）

• 樣品臺(tái)：

– 用于納米粒子加速的直流偏壓

– 用于樣品表面清潔的射頻偏置

– 加熱至 800°C

• 泵送 – 700l/s 渦輪增壓器

• 帶傳輸臂的單獨(dú)泵送負(fù)載鎖

• 系統(tǒng)烘焙

• 閥門、百葉窗和線性驅(qū)動(dòng)器的自動(dòng)化選項(xiàng)

• 渦輪前方的可調(diào)節(jié)擋板，以增加動(dòng)態(tài)壓力范圍，以便在較低氣體流量下進(jìn)行濺射

NEXUS 系統(tǒng)配置選項(xiàng)

控制軟件

Spectrum Software 手冊(cè)

直觀的“拖放"用戶界面易于使用，并允許自動(dòng)化的抽真空和沉積序列。

突出

? 全自動(dòng)抽空和排氣

? 配置虛擬機(jī)架以適合您的流程

? 易于添加和刪除儀器

? 實(shí)時(shí)圖表

? 聯(lián)鎖監(jiān)控

? 配方控制

? 數(shù)據(jù)記錄功能